Equipamento: Inductively Coupled Plasma
Responsável: Audrey Silva
Co-responsável: Valter Martarello
Financiamento:
Descrição
O ICP (Inductively Coupled Plasma) é um equipamento para corrosão seca assistido por plasma.
A característica principal do ICP com relação a os outros reatores de plasma é a adição de um indutor para melhorar a densidade do plasma, permitindo altas taxas de corrosão e melhor anisotropia.
Recursos
Gases: Ar, N₂, SF₆, O₂
Infraestrutura para C₄F₈ (gás não disponível)
Informações de segurança
Os gases utilizados são tóxicos e oxidantes.
Em caso de emergência contatar o responsável.
O usuário deve estar sempre presente na sala durante a operação.
Exigências para uso
- Preencha o logbook com a receita utilizada e tempo de deposição.
- Adicione qualquer informação relevante ou peculiaridades ocorridas ao longo do processo.
Restrições de materiais
São permitidos na câmara apenas mateiras compatíveis com CMOS.
A utilização de amostras contendo qualquer outro tipo de material (ouro, polímeros, etc) deve passar pela aprovação do técnico responsável.
Restrições de parâmetros para uso
Apenas executar receitas padrão.
Não alterar qualquer uma das receitas sem aprovação prévia do técnico responsável