RTP

Descrição

O forno de recozimento rápido Jipelec Jetfirst permite processos de annealing, ativação de dopantes e oxidação em pressão ambiente, com alta rampa de aquecimento.
O sistema utiliza lâmpadas de tungstênio-halogênio para obter rampas de até 50°C/s com temperatura máxima de até 1000°C, a temperatura é controlada através de termopares e pirômetros.

Recursos

Gases disponíveis: N₂ , O₂ e forming gas.

Informações de segurança

O equipamento utiliza alta tensão e alta corrente, portanto tomar cuidado ao operar o sistema.

O usuário deve estar sempre presente durante o processo.

Verificar se a exaustão do equipamento está ligada.

Exigências para uso

Conversar com o responsável antes de agendar o treinamento ou processo.

Agendar o processo no sistema de agendamento.

Solicitar a troca de gás ao responsável ou para a manutenção.

Antes de começar o primeiro processo:

• Fazer limpeza RCA ou Orgânica antes de inserir no equipamento.
• Checar se há pressão de água para refrigerar.
• Testar Cooling do sistema (Ar comprimido e água).
• Testar fluxo de gás.

Qualquer problema durante o processo, contatar o responsável imediatamente.

Checar gráficos durante o processo.

Após o processo:

• Esperar o sistema terminar a rotina de cooling das lâmpadas a
• Abrir a câmara com temperatura menor que 70°C.
• Desligar a exaustão.
• Desligar a água.
• Fechar os gases.
• Desligar o equipamento.
• Fechar o ar comprimido.

Restrições de materiais

Metais não refratários.

Metais incompatíveis com processo CMOS não são permitidos (ouro, cobre, cromo, carbono, etc.)

Polímeros.

Restrições de parâmetros para uso