Equipamento: Sistema de litografia por feixes de elétrons
Responsável: Emilio Carlos Bortolucci
Co-responsável: Fred Cioldin
Financiamento: FAPESP proc. 09/54064-4
Descrição
O Sistema de Litografia por Feixes de Elétrons eLine comporta a escrita em substratos de silício, vidro, GaAs e outros até 2″ de diâmetro, com tensão de aceleração variável entre 100V e 30 kV com canhão tipo TFE.
Opera tanto no modo de escrita como no modo de imageamento.
O tamanho da sonda é de 2 nm (p/ 20 kV).
Possui abertura selecionáveis de 7 µm, 10 µm, 15 µm, 20 µm 30 µm, 60 µm e 120 µm, permitindo selecionar correntes de feixe entre 1 pA a 2 nA.
O sistema de deflexão do feixe permite a seleção de campos entre 1 µm e 2 mm.
A metrologia de movimento da mesa do porta substrato é controlada por interferometria a laser com resolução de 2 nm.
O eLine conta com dois detectores de elétrons retroespalhados, um convencional e outro opera no modo “Inlens,” permitindo trabalhar com detecção de marcas de alinhamento para escritas multiníveis.
As operações do sistema de vácuo são automatizadas e o equipamento conta com ante-câmara (loadlock).
Possui software de edição de ‘layouts’ instalado e aceita formatos GDSII, CIF, DXF, ASCII, BMP.
Recursos
Ambiente para preparação e processamento de amostras com “spinner”, “hot plate” e capela química. Resist PMMA 950k (ARP-679-03) e respectivo revelador/“stopper.”
Informações de segurança
Exigências para uso
Restrições de materiais
Restrições de parâmetros para uso