Equipamento: Dual FIB: FEI Nanolab 200
Responsável: Alfredo Vaz
Co-responsável:
Financiamento: FAPESP 04/09324-4 (PROEM)
Descrição
O sistema FIB-SEM é considerado como uma ferramenta essencial para fabricação das novas gerações de MEMS e NEMS (Micro and Nano Electrical Mechanical Systems), pois esse sistema permite gravar padrões na superfície diretamente, sem o uso de máscaras, possibilitando a prototipagem rápida de dispositivos, pode ser usado para a deposição de metais e dielétricos e além disso pode obter imagens de alta resolução através de microscopia eletrônica de varredura. Operacional desde 2005
Recursos
Feixe duplo (focused ionbeam – scanningelectronmicroscope)
Contend feixe de ions Ga 30 kV, diametro mín. 7 nm
Feixe de elétrons 30 kV, mín. 1-2 nm.
Informações de segurança
Exigências para uso
Restrições de materiais
Restrições de parâmetros para uso