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..IE726 - Processos de Filmes Finos
Professores responsáveis: Ioshiaki Doi e José Alexandre Diniz
Ementa:
Não disponível
Aulas:
Aula Inaugural
Aula de Revisão
Aula Oxidação
Aula Caracterização
Listas:
Não disponível
Material de apoio:
Capítulo 3 - Técnicas de Deposição por CVD
Capítulo 4 - Deposição de Silício Policristalino
Capítulo 5 - Deposição de Óxidos e Nitretos por CVD
Capítulo 6 - Técnicas de Deposição
Capítulo 6 - Técnicas de Deposição - Sputtering
Capítulo 7 - Filmes Finos Condutores
Capítulo 8 - CVD de Metais
Capítulo 9.1 - Silicetos
Capítulo 9.2 - Silicetos CCS
Capítulo 16 - Tecnologia Back End (parte1)
Capítulo 16 - Tecnologia Back End (parte2)
SBPMAT2002
IE726.doc
Software:
Não disponível
Planejamento:
Não disponível
Notas:
Notas e Médias das Provas